साबुन उद्योग में मुक्तशेष लाइ (स्पेंट लाई) से ग्‍लिसरॉल पृथक करने के लिए सबसे उपयुक्त आसवन विधि है

Options

A. प्रभाजी आसवन
B. वाष्प आसवन
C. समानीत दाब पर आसवन
D. सामान्य आसवन

Answer

C

Explanation

ग्‍सिरॉल को उच्च क्वथनांक पर कम दबाव के अधीन आसवन द्वारा खपत लाई से पृथक किया जा सकता है। इस प्रक्रम का उपयोग बहुत उच्च क्वथनांकों वाले द्रवों को परिष्कृत करने हेतु किया जाता है इस प्रक्रम में, द्रव की सतह पर से दाब कम करके द्रव को उसके क्वथनांक से नीचे के ताप पर उबाला जाता है।